kSA SpectR是一種用于測量光譜反射率，L*a*b*成色值和生長速率的非接觸式測量設備。該工具具有多種在線監控和過程控制的應用功能，包括垂直腔表面發射激光器件（VCSEL），分布式布拉格反射器件（DBR）和其他一些復雜的半導體器件結構。該設備主要應用于監控測量sputtering，MBE和MOCVD等薄膜生產研究。
kSA SpectR的光學鏡組被配置為鏡面反射的幾何形狀。在這種測量原理中，薄膜每生長出一個新layer，程序就會自動擬合，將已有的所有基底和薄膜layer視為一個新的虛擬基底。
kSA SpectR可以同時以多個波長進行測量，每個波長都具有潛在的特性。此工具可在客戶選定的波長范圍內測量自定義光譜特征，如反射率的Min值、Max值、拐點或基線散射水平。
k-Space公司的 CEO Darryl Barlett表示："與我們的許多設備一樣，此設備是由特定客戶直接定制所研發出來的。當客戶來找我們時，我們聽取了他們的詳細測量要求，然后設計了一個系統，結合了Sandia國家實驗室的新技術，根據客戶的應用場景研制了該設備。"隨著薄膜層的復雜性的提高，為了提高產品的產量和性能，各種材料參數的測量越發重要。該系統有能力在復雜的薄膜結構上進行測量，包括在DBR生長過程中確定Fabry-Perot dip等多種參數。
850 nm DBR的光譜反射率
在GaAs襯底上生長250nm的AlAs和500nm的GaAs時，532和940nm下的反射率及其擬合曲線
AlAs生長期間的生長速率，光學常數和反射率實時擬合曲線
AlAs和GaAs生長的未經校正的高溫計測量結果和經過校正的ECP溫度
GaAs薄膜生長過程中單個反射率振蕩周期圖
